金融界9月18日音讯，拓荆科技发表投资者联系活动记载表显现，公司研发的ALD设备系列产品有PE-ALD设备和Thermal-ALD设备，其间PE-ALD设备已完成量产，能够堆积SiO2、SiN等介质薄膜资料，Thermal-ALD设备已出货至不同客户端做验证，能够堆积Al2O3等金属化合物薄膜。一起，公司的SACVD和HDPCVD设备也已完成产业化。公司将继续坚持产品中心竞赛优势，逐渐扩展量产使用规划。此外，公司晶圆对晶圆键合产品（Dione 300）已经过客户检验，并获得了重复订单，芯片对晶圆键合外表预处理产品（Pollux）已出货至客户端验证。
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